蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的gaalas单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源，在真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜较慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板，可---地做出所需成分和结构的单晶薄膜。
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td 表面覆层处理技术是熔盐浸镀法、电解法以及粉末法进行表面硬化处理技术的总称( 在我国有人称: 熔盐镀金属处理)。其原理是: 将工件置于硼砂(或其他) 熔盐的混合物中， 通过高温热扩散作用，东莞手机扣压铸加工， 在工件表面形成一层数微米至数十微米的金属碳化物覆层。目前---应用较广的是碳化钒(vc) 覆层，由于这些碳化物具有---的硬度(hv=2800～3200)和更严密的组织， 所以经过td 处理的汽---具性能大幅提高， 具有---的耐磨性、抗咬合性( 拉伤)、耐蚀性；据资料统计: 日本大批量生产的模具， 85%以上是经过td 处理的。
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